(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号CN110970328A(43)申请公布日2020-04-07(21)申请号CN7.0(22)申请日2019-11-18(71)申请人长江存储科技有限责任公司地址430074湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018(74)专利代理机构北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙)11479代理人(51)Int.CIH01L21/67(2006.01)权利要求说明书说明书(54)发明名称密封环安装治具及安装的步骤(57)摘要本发明提供了一种密封环安装治具及安装的步骤，用于将第一密封环和第二密封环通过各自的安装面相互贴合安装，密封环安装治具包括：第一压合件，其具有第一压合面，第一压合面用于贴合固定第一密封环上远离其安装面的表面；第二压于贴合固定第二密封环上远离其安装面的表面；连接固定件，其用于连接并固定第一压合件和第二压合件，使第一压合面和第二压合面相对设置，且第一密封环与第二密封环相互贴合。本发明采用第一压合件和第二压合件分别固定第一密封环与第二密封环，使第一密封环与第二密封环贴合固定，改善了密封环安装过程中受力的均匀性，提升了密封环的密封性能，并节省了维护的时间及人力成本。法律状态法律状态公告日法律状态信息法律状态2020-04-07公开公开【密封环安装治具及安装的步骤】技术领域本发明涉及半导体集成电路制造设备领域，特别是涉及一种密封环安装治具及安装方法。背景技术在半导体集成电路制造的刻蚀或薄膜沉积等关键工艺制程中，在工艺腔室中维持稳定的工艺氛围是控制工艺稳定性及确定保证产品良率的主要的因素。目前，在先进的干法刻蚀设备中，为了在工艺过程中维持稳定且均匀的等离子体刻蚀氛围，工艺腔室一般都会采用在顶部设置工艺气体喷淋头(showerhead)的结构。所述工艺气体喷淋头的供气分布范围能够覆盖晶圆面积，这确保了工艺气体能够在晶圆面内均匀分布，并使其所形成的等离子体的分布范围更为均匀，这将有利于提升刻蚀均匀性和工艺的均一性。为了逐步提升上述气体分布均匀性的效果，围绕工艺气体喷淋头还设置有环状的密封部件，用于在工艺气体喷淋头与晶圆卡盘之间形成能够维持稳定工艺氛围的空间。这些密封环部件在安装时一般要求相互紧密贴合，确保密封性能，防止出现过大的空隙，以免影响原有的刻蚀氛围的均匀分布。然而，上述密封环结构在工艺腔室进行定期维护时通常要拆卸、维护并重新安装。由于对密封环结构的密封性能要求比较高，仅靠维护人员凭人力按压密封环结构并进行紧固还存在安装容易错位、紧固受力不均匀以及维护过程耗时耗力的缺点。此外，一旦密封环结构安装不到位，就会导致密封性能不佳，进而影响工艺结果甚至导致产品报废。因此，有必要提出一种新的密封环安装治具及安装的步骤，解决以上问题。发明内容鉴于以上所述现存技术的缺点，本发明的目的是提供一种密封环安装治具及安装的步骤，用于解决现存技术中人工紧固密封环存在安装容易错位、紧固受力不均匀以及维护过程耗时耗力的问题。为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供了一种密封环安装治具，用于将第一密封环和第二密封环通过各自的安装面相互贴合安装，其特征是，包括：第一压合件，其具有第一压合面，所述第一压合面用于贴合固定所述第一密封环上远离其所述安装面的表面；第二压合件，其具有第二压合面，所述第二压合面用于贴合固定所述第二密封环上远离其所述安装面的表面；连接固定件，其用于连接并固定所述第一压合件和所述第二压合件，使所述第一压合面和所述第二压合面相对设置，且所述第一密封环与所述第二密封环相互贴合。作为本发明的一种可选方案，所述第一压合面和/或所述第二压合面的材料包括特氟龙材料。作为本发明的一种可选方案，所述密封环安装治具还包括用于使所述第一密封环与所述第二密封环以设定的......完整内容请下载后查看
